概 述

太阳能全自动制绒清洗设备

      该全自动多晶硅太阳能电池制绒设备能够实现HF,HNO3与H2SO4溶液的酸制绒过程，并且还具有清洗功能。此机台采用德国进口的板材制做每个槽，加热槽的工作方式采用进口投入式PFA加热器；混酸槽采用从国外进口的热交换器来确保温控精确；混酸槽同时支持化学品补液体功能，部份换液功能和全部换液功能。系统还预留了单晶硅碱洗制绒工艺的部分控制功能。
      系统的硬件由PLC来控制，操作者通过彩色的触摸屏来控制和监视系统的所有功能。对于设备的菜单编辑和维修需要工程师通过密码才能完成。
      125x125mm, 156x156mm 单晶，多晶硅片, 25MW/50MW标准产能，化学品自动供应、配液、补液系统。

特 色

      • 安全紧凑的设计，整个机台由三个机体组成。
      • 槽体单一排列，化学流程在设备前部从左到右进行。
      • 机械手臂在设备的前部，共有两套，维修灰区以及电气区域在设备的后部。
      • 液晶触摸屏安装在机台侧面，为可伸拉的摇臂方式。
      • 以三个模块为一个区域，在设备的工艺槽及前机械手位置可配备一个N2枪和水枪。
      • 以三个模块为一个区域，会有两个透明的PVC防护门与前部通道隔离。
      • 主排风气路设计在机台后部，顶部安装有HEPA高效过滤器。

部 件

去离子水槽

      • 温度：室温
      • 材质：德国进口NPP
      • 内部尺寸：500mm*480mm*280mm
      • 排液：1/2”的重力排放,手动控制的球阀在设备的维修区域，同时有360度的溢流功能
      • 注液：可调节的流量计，从底部注入
      • 批次检测：在这个槽内有两个位置监测点，每个位置上有一个光纤传感器

刻蚀槽

   此槽具有双重功能，既具有酸刻蚀功能又具有碱刻蚀功能。以下分别介绍此两种功能。
   A：具有酸刻蚀功能时槽的特点
      • 温度：入片温度11～13°C，工艺开始后升温不应超过2°C
      • 温度传感器：PT100RTD
      • 槽体材质：德国进口的10mmPVDF
      • 内部尺寸：280mm*480mm*280mm
      • 排液：3/4’’FNPT重力排放，离底板高度在300mm左右
      • 盖子：NPP材料的自动盖子
      • 注液：通过自动供酸系统完成药液混合配比，配比比率为：HF：HNO3：H2SO4：H2O 1～12：1～12：1～5：10～15
   B：具有碱刻蚀功能时槽的特点
      • 温度：室温～80°C
      • 温度传感器：PT100RTD
      • 槽体材质：德国进口10mm的NPP材料
      • 加热器：控制系统中预留加热器件，但是在槽内不会安装加热器
      • 鼓泡：N2鼓泡
      • 排液：3/4’’FNPT重力排放，离底板高度在300m左右
      • 盖子：NPP材料的自动盖子
      • 注液：通过自动供酸系统完成药液混合配比，配比比率为：NaOH:Hot DIW 1~100:1~100.混合系统也可分隔从厂务供应的热的纯水

HCL槽

      • 温度：80-90°C+/-5°C
      • 温度传感器：PT100RTD
      • 内部尺寸：480*280*280
      • 加热器：2KWHeatflex浸入式加热器
      • 排液：3/4’’FNPT重力排放，离底板高度在300mm左右
      • 注液：系统会通过控制液位传感器把热的纯水储水槽内的纯水注入到工艺槽内

18Mohm溢流漂洗纯水槽

   纯水槽是由三个槽组成，位于10，11，12号工位。
      • 温度：室温
      • 槽体材质：德国进10mmNPP
      • 排放：手动控制重力排放
      • 注液：从13/14号工位溢流注入，然后溢流到11号工位，再溢流到10#工位，流量可是在4-151lpm。

DIW加热槽

      • 温度：60～70°C
      • 温度传感器：PT100RTD
      • 槽体材质：德国进口10mmNPP
      • 排水：手动重力排放至底盘
      • 盖子：NPP

界 面

      • 操作界面中英文切换。
      • 主屏幕上清楚各个模块的操作者。
      • 在状态模块上清楚显示每个槽的状态。
      • 每种类型的槽都支持10个不同名称的菜单。
      • 关键的功能支持密码保护。
      • 系统在每个工艺过程结束前，都提供一个预警报。
      • 提供完成警报。

厂 务

      • CDA (洁净干燥空气)：用来操作气动阀门。
      • N2 (氮气)：氮气是一种惰性气体，它不太容易和别的物质起反应。它是保持过程中化学品纯度的一个理想的气体。
      • DI Water（去离子水）：这种水是指几乎将金属离子颗粒等全部去除的水。它主要是用来溢流槽，使得硅片可以漂洗干净，将污染物从硅片表面去除掉。去离子水的另一个功效就是用作去离子水枪。
      • 电源：电源是三相 380VAC,功率是20KW.
      • 排风：排风是为了保证化学品烟雾远离操作者并从机台只排出.