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只有一流的人,才能做出一流的产品
企业使命
把科技带进中国,把创新推向世界
湿法装备的技术先导
为客户利益努力创新,提供独特价值
为员工发展创造空间,提升生活品质
为行业进步积极探索,谋求合作共赢
企业文化
诚实守信 团队合作
关爱宽容 感恩奉献
成果导向 创新发展
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硅密(常州)电子设备有限公司
常州新北区电子产业园新科路21号
工作时间
周一~周五 8:30-17:30
电话:(0519) 85486173
传真:(0519) 85486203
- 全自动机台
- 半自动机台
- 手动机台
- 全新G-3000系列200mm/300mm全自动清洗刻蚀设备
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- 设备用途:
- 用于生产制备环节的产品刻蚀清洗,确保产品的工艺洁净度满足工艺指标,全过程为全自动运行;
- 辅助条件:
- 超声、兆声、循环、冷却、振荡、旋片、鼓泡、干燥等
- 面对行业:
- 半导体、先进封装、MEMS等,依据客户的需求,提供专业的定制设备
- 设备特点:
- ★ 软件和硬件的模块化设计可以支持在工艺变动时增减更换模块,减少设备投资风险
- ★ 全电脑控制系统可提供无限的存储空间,实时记录生产数据,提供多种数据分析功能
- ★ 支持EFEM, SMIF自动传输,软件具有GEM/SECSII接口,提供EAP功能
- ★ 发明专利的配液系统,实现1%的配液精度,更改浓度配比可直接在软件里输入所需的体积
- ★ 改进的夹持机构能防止急停时片篮掉落
- ★ 德国Beckhoff伺服控制系统增强了抗电磁干扰的能力
- ★ 采用以太网控制自动化技术简化了大量的线缆及传感器的使用,提升设备的可靠性
- ★ 软件支持同时运行不同的菜单,保证产能最大化
- ★ 工艺需要时,传递花篮时间(槽内到另一槽内)可以缩短至4秒
- 可选配置:
- ▲浓度监测系统 ▲化学品集中供应系统 ▲CO2灭火系统 ▲废液回收系统 ▲FOUP自动开盖与OHT系统
- 全自动清洗刻蚀设备(AWS-2600/2800)
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- 设备用途:
- 用于生产制备环节的产品刻蚀清洗,确保产品的工艺洁净度满足工艺指标,全过程为全自动运行;
- 辅助条件:
- 超声、兆声、循环、冷却、振荡、旋片、鼓泡、干燥等
- 面对行业:
- 半导体、先进封装、MEMS等,依据客户的需求,提供专业的定制设备
- 设备特点:
- ★ 全自动的封闭系统,多重硬件和软件保护,人性化UI操作界面,灵活的工艺编程,工艺数据及日志记录
- ★ 可用于处理2”、6”、8”、12”以及非规则的定制产品
- ★ 先进的机械手设计,自动生产排程,满足大产能需求
- ★ 迅速达到工艺温度
- ★ 自动配液、补液
- ★ 最经济的化学品消耗量
- ★ 最大化的保障设备运行的可靠及安全性
- ★ 具有专利的局部高温酸排风设计
- 可选配置:
- ▲浓度监测系统 ▲化学品集中供应系统 ▲CO2灭火系统 ▲废液回收系统
- 半自动清洗刻蚀设备(SWS-2600/2800)
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- 设备用途:
- 适用于2”~8”的晶圆片的湿法化学工艺清洗;可根据不同的清洗工艺来配置相应的清洗功能单元:去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层等;设备广泛应用于抛光片、扩散前、氧化前及光刻后关键工艺的清洗;
- 辅助条件:
- 超声、兆声、循环、冷却、振荡、旋片、鼓泡、干燥等
- 面对行业:
- 半导体、LED、光伏等,依据客户的需求,提供专业的定制设备
- 设备特点:
- ★ 保证工艺的精确性及重复性,性价比高
- ★ 精确控制工艺温度
- ★ 安全稳定的悬挂式机械臂,自动实现工艺槽及水槽之间花篮的传送,上下振荡,振幅及振荡频率可调
- ★ 独特的夹具设计:兼容性高;最小化化学品残留;最大化晶圆与化学品的接触
- ★ 自动配液、补液
- ★ 灵活的工艺编程
- ★ 工艺数据及日志记录
- ★ 支持条码管理
- ★ 具有专利的局部高温酸排风设计
- ★ 结构紧凑,占地面积小,造型美观、实用
- 可选配置:
- ▲浓度监测系统 ▲化学品集中供应系统 ▲CO2灭火系统 ▲废液回收系统
- 手动清洗刻蚀设备(M-2600/2800)
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- 设备用途:
- 手动实现生产制备过程中产品的清洗及刻蚀工艺;适用于2”~12”的晶圆片的湿法化学工艺清洗;可根据不同的清洗工艺来配置相应的清洗功能单元:去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层等;设备广泛应用于抛光片、扩散前、氧化前及光刻后关键工艺的清洗;
- 辅助条件:
- 超声、兆声、循环、冷却、旋片、鼓泡、干燥等
- 面对行业:
- 半导体、LED、光伏等,依据客户的需求,提供专业的定制设备
- 设备特点:
- ★ 保证工艺的精确性及重复性,性价比高
- ★ 精确控制工艺温度
- ★ 灵活的工艺编程
- ★ 支持条码管理
- ★ 支持工艺变更与升级
- ★ 自动配液、补液
- ★ 工艺数据及日志记录
- ★ 多元化的操作方式
- ★ 具有专利的局部高温酸排风设计
- 可选配置:
- ▲浓度监测系统 ▲化学品集中供应系统 ▲CO2灭火系统 ▲废液回收系统
- 有机清洗机台
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该清洗设备是湿法处理设备,能够处理ACT 915、IPA与DIW清洗的过程.设备外壳采用304不锈钢拉丝板,槽体采用316L电解抛光不锈钢。快排槽支持底部注水, 顶部喷淋, 快排。
系统的硬件由PLC来控制,具体是从状态传感器得到一个输入,由此来控制和监视系统的一些功能。操作者通过彩色的触摸屏来操作。软件在输入密码的状态下是完全受控制的。包括机台的组成和每个槽的监控,以及菜单的多样编辑都受控。
- 炉管清洗机
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- 全自动炉管清洗设备
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- 设备用途:
- 本设备为浸泡式清洗机,用于扩散、外延等设备的石英管,碳化硅管的清洗
- 设备功能:
- 用于石英炉管的清洗,操作员手工放入,在清洗槽内自动旋转,酸腐蚀后DIW冲洗,然后手工取出。
- ★ 不锈钢骨架,白色的PP外壳,底盘采用挤出式焊接工艺,杜绝渗漏风险;
- ★ 机台侧部安装有可旋转式的触摸屏;
- ★ PLC控制工艺过程,用户界面进行编程和监控;
- ★ 工艺槽内石英炉管可做旋转运动,有一定的倾斜角度以利于排空内部液体; 清洗槽左右两端设有美国进口纯水喷枪和氮气喷枪
- ★ 工艺槽内石英炉管可做旋转运动,有一定的倾斜角度以利于排空内部液体;
- ★ 后部的排气装置,有可调节的气闸;
- ★ EMO紧急按钮;
- ★ 三色警灯;
- ★ 前部和后部维修门设计;
- ★ 后部自动供酸系统接口设计;
- ★ 清洗槽左右两端设有进口纯水喷枪和氮气喷枪。
- 石英坩埚清洗机
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- 全自动石英坩埚清洗设备
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自动的石英坩埚清洗机是利用湿法的化学工艺来清洗石英部件。在清洗的过程中,HF附带DI水及加压氮气被做为蚀刻剂,石英坩埚的移动是通过PLC控制多向的自动化机械手臂来完成系统的操作。
设备主体结构由清洗机箱体、漏盘、上下喷淋系统、活动托盘、储酸系统、抽风系统、酸液循环系统、石英器皿腐蚀/清洗槽、热风烘干系统、管路部分、PLC+触摸屏电控部分。
该设备主体上下分为三部分:上层电器控制系统、后部抽风系统,中层工作区,下层为管道安装维修区、储酸箱、DIW增压泵、缓冲槽、酸液循环泵等。
工艺流程:
首先将石英坩埚放入清洗机立式活动台,检查水、电、气正常,活动门封闭,然后启动按钮→进入酸洗程序→进入DIW洗程序→冷风预吹干→热风吹干→冷风预冷却→合格报警→人工用小车将石英坩埚取出清洗机,完成整个清洗工作。
- 晶片甩干机(2”, 4”, 6”, 8”, 12”,125mm, 156mm)
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- ★ 离心立式晶片甩干机
- ★ Semitool: 840S, 860S, 870S, 880S, 8300S
- ★ Verteq: 1600-55M/A, 1800-6
- ★ 同时供应上述甩干机的零配件
- Marangoni 表面张力干燥机
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- 设备用途:
- 150mm~300mm晶圆干燥
- 设备特点:
- ★ 分子级水平干燥效果
- ★ 干燥后无水痕残留
- ★ 无碎片风险
- ★ 有效干燥高深宽比结构,特别适用于MEMS
- ★ 室温下的IPA工艺保证安全
- ★ 极低的化学品消耗,最少6ml每个批次IPA消耗
- ★ 较少的占地面积,与立式甩干机一致
- ★ 多种配置可供选择,独立式、集成式